https://wulixb.iphy.ac.cn/en/article/doi/10.7498/aps.71.20220486
최근 반도체 때문에 중국이 골치좀 아프고 있죠
예전에 국내 모 매체에서도 한번 언급한적이 있는것 같은데 중국에서 접근중인 euv 기술입니다
FEL이라는 전자가속기 기술을 이용한 euv 발생기를 이용해서 리소그라피를 만드는 기술에 대해서
22년 칭와대에서 발표한 기술입니다

반도체에서는 요즘 SSBM( Steady-state micro-bunching )이라고 합니다
최근에 칭와대에 이 SSBM 시험 시설을 만들려는 논의가 급가속되고 있다는 이야기입니다.
asml의 하이 na 가격이 5억달러를 찍어서 이제 SSBM 초기 구축비를 따지면 거기서 거기라는 이야기도 나오고 있습니다.
일단 가속기만 3조 정도 들어갈것으로 예상하는데 부지 면적이야 가속기가 더 크겠지만 중국 땅크기에 비하면 콩알만한 수준이고
일단 co와 펄스 앰프등 특허등을 다 피해갈수 있으며(참고로 이 SSBM을 처음 주장한 개발자도 중국교수입니다 MIT임용시절에 제안) 주석 오염도 없고 훨씬더 고출력의 빔을 생성할수 있어서 5~10대의 리소장비를 연결할수도 있습니다 거기에 현재 blue x 혹은 beuv로 불리는 6mm 파장의 빔도 생산가능하죠

이미 HEPS라는 가속기 사업으로 진행중인 시험시설입니다 25년부터 본격가동에 들어갈 예정이며
이르면 2030년 이전에 이 시설을 기반으로 euv 생산이 가능할것으로 이야기중입니다
하지만 문제는.....광학계가 없다는 사실.. 손에 넣기는 힘들겁니다.
최근 일본 기가어쩌고 저쩌고 테스트 자료를 봤는데 일본도 어찌어찌 반사율 70%짜리 거울을 만들긴 했는데
주석에 대한 오염도 때문에 거울 내구성이 금방 떨어지더군요 혹여나 다음에 광원계에 대해서 글을 쓴다면 이부분에 대해서
보면 재미있긴 합니다.....(제가 귀찮니즘에 빠지지만 않는다면 언젠가는 쓰겠죠)
일본도 캐논도 그렇고 열심히 euv 만들고 있습니다 캐논은 5nm 7nm대 공정에 사용가능한 수준으로 현재 발전했지만 수율은 듣기로는 3x%대로 알려져 있습니다
asml이 첫 euv 테스트 기기 가동했을때 수율이 10%대였죠
정상적인 경쟁시장이면 밀려날 아이템이지만 서서히 상당히 높은 수준까지 자립했죠. 최신형 휴대폰과 각종 장비에 쓰일 수준으로는 이미 충분한 수준이죠.
가속기에서 EUV 생성하는건 중요한거 같진 않아요. 국내에서도 몇년 전부터 됐던 기술이거든요 포항 가속기연구소에서도 가속기에서 EUV 생성됩니다.
EUV소스는 LPP(Sn, Xe), HHG 등으로 어렵지 않게 생성할수 있습니다. 장비의 사용할만할 소스인가가 중요하긴 하겠죠.
EUV에서는 소스도 중요하지만 반사계(광학)과 고속 스테이지 기술도 중요하다고 보는데 이쪽이 어려운거 같더라고요.