美·日, 정부가 앞다퉈 투자

민·관 연구소에 EUV 도입

韓 구세대 ArF 이머전 추진

소부장 기업 첨단장비 한계

기술 확보 경쟁력 저하 우려

미국과 일본이 정부 주도로 초미세 회로에 필수인 '극자외선(EUV)' 노광장비를 민관 연구소에 도입하는 방안을 추진하고 있다. 첨단 반도체 기술 개발을 위해 수천억원에 이르는 고가의 장비에 투자하는 것으로, 예산 한계로 구세대 장비 도입이 추진되는 한국과 대조적이다. 첨단 반도체 기술 확보 경쟁에서 뒤처질 수 있다는 우려가 제기되고 있다.

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반면 국내서 정부 주도로 추진되는 반도체 연구소는 미국, 일본과 큰 차이를 보인다.

2년 전 정부는 최첨단 장비를 갖춘 '한국형 아이멕' 구축 계획을 발표했지만 사실상 중단된 상태인 데다, 산업통상자원부와 SK하이닉스 및 일부 반도체 기업이 협력해 용인에 구축하는 '미니팹(트리니티 팹)'도 격차가 있다. 이 미니팹에는 EUV 노광장비가 아닌 '불화아르곤(ArF) 이머전' 장비 도입이 추진되고 있다.

ArF는 현재 반도체 업계에서 가장 많이 사용되는 장비나 미세화에 한계가 있다. 미국과 일본, 선진 기업들이 앞다퉈 EUV 장비를 구매하려는 이유다. 그러나 미니팹 전체 장비 구입 예산은 3000억원에 불과한 것으로 파악됐다. 우리나라는 예산 문제로 EUV 이전 세대 장비, 즉 구세대 장비에 투자에 그치고 있는 것이다.

ArF 이머전 장비는 나노종합기술원은 물론, 일부 업체들도 자체 보유한 장비라 기술 경쟁력 강화에 미치는 영향은 제한적이라고 업계에서는 아쉬움을 토로하고 있다.

결국 해외 연구기관의 EUV 노광장비를 활용해야하는데, 회비·시설 이용료·물리적 거리 탓에 중소·중견 규모의 소부장 기업은 사실상 활용이 불가능하다.

업계 관계자는 “반도체 제조사에 품질 평가를 의뢰하려 해도 최소한의 품질 기준을 넘어야 하는데 EUV 장비 없이 R&D를 수행하는 데는 한계가 있다”며 “국내 기업의 EUV 경쟁력 강화를 위해서는 정부의 과감한 투자가 필요하다”고 말했다.

국가별 정부 지원 비교